微分干涉
  • 微分干涉

可搭配APO物鏡使用 應用在微分干涉(DIC)廣泛應用於工業檢測、自動化、電子通訊、半導體、生物醫療、科學研究等領域。 如下圖所示應用在面板廠的ACF導電粒子


產品特點
 

功能介紹

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應用領域

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產品型號解析

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参數表

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1.不必考慮相差環及聚光鏡環的遮擋,可以實現高數值孔徑的物鏡觀察。
這意味著DIC 可以提高軸向分辨率,這在分辨率要求很高的試驗中尤其有意義。
2、DIC 成像時,決定對比度的首要因素是光通路中的梯度變化(即光波傳播方向上的變化率)。
梯度大的區域在視野下對比度高,並呈現出“偽立體”效果這是DIC 的特征效果
3、所觀察到的樣品各組成相間的相對層次關系突出,可以將明視場觀察法中無法檢測到的高度差異,
用增強的對比度以浮雕或三維圖像的形式表現出來,對顆粒、裂紋、孔洞以及凸起等能作出正確的判斷
,能夠容易判斷許多明場下所看不到的或難於判別的一些結構細節或缺陷
4、適用於檢測高度差異極其微小的樣本,包括金相組織、礦物、磁頭研磨面和硬盤表面及晶圓研磨面。 
可搭配APO物鏡使用

應用在微分干涉(DIC)廣泛應用於工業檢測、自動化、電子通訊、半導體、生物醫療、科學研究等領域。

如下圖所示應用在面板廠的ACF導電粒子