近紅外線光刻機紫外(曝光機)

近紅外光的微影曝光技術。近紅外線光的透過性高，具有即使是厚膜光阻.將新技術應用於黑色光阻，並展開在次世代顯示器用途的應用開發。利用波長比可見光更長之近紅外光(700～1,000 nm)微影曝光技術.對近紅外光有反應的敏化染料，成功地實現了近紅外線曝光。敏化染料吸收了近紅外光的能量，被激發的能量傳導至光反應物質，進而產生了近紅外光的光反應.近紅外光的適用目 標設定在於膜厚2μm以上的曝光。